― 設備 ―    

・有機金属気相成長装置　GaN-MOCVD　UR25K5210,UR26K4210

（大陽日酸株式会社製）

・有磁場ICP高密度プラズマエッチング装置　NE-550EX

・ロードロック式スパッタ装置　CN-200

・赤外線ランプ加熱装置 RTP-8S

（株式会社アルバック製）

・電子ビーム描画装置 JBX-6300DB

（日本電子株式会社製）

・高周波・高耐圧デバイス測定システム

（Agilent Technologies Inc製,Cascade Microtech Inc製）

・大型X線回折装置　D8DISCOVER-BC

（Bruker AXS GmbH製）

・環境制御型走査プローブ顕微鏡　NNReal/E-sweep-Metmo1

(エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製）

・高精度表面形状測定システム　Dyvoce-3000

（神津精機株式会社製）

・スピンコーター, 現像装置 （SUSS MicroTec AG製）

・ドラフトチャンバー, 廃液回収システム　(ヤマト科学製)